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चीन SiC एपिटैक्सी प्रक्रिया निर्माता, आपूर्तिकर्ता, फ़ैक्टरी

VeTek सेमीकंडक्टर की अनूठी कार्बाइड कोटिंग्स सेमीकंडक्टर और मिश्रित सेमीकंडक्टर सामग्री की मांग के प्रसंस्करण के लिए SiC एपिटैक्सी प्रक्रिया में ग्रेफाइट भागों के लिए बेहतर सुरक्षा प्रदान करती हैं। इसके परिणामस्वरूप ग्रेफाइट घटक का जीवन विस्तारित होता है, प्रतिक्रिया स्टोइकोमेट्री का संरक्षण होता है, एपिटेक्सी और क्रिस्टल विकास अनुप्रयोगों में अशुद्धता प्रवासन में बाधा आती है, जिसके परिणामस्वरूप उपज और गुणवत्ता में वृद्धि होती है।

हमारी टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग्स महत्वपूर्ण भट्टी और रिएक्टर घटकों को गर्म अमोनिया, हाइड्रोजन, सिलिकॉन वाष्प और पिघली हुई धातुओं से उच्च तापमान (2200°C तक) पर बचाती हैं। वीटेक सेमीकंडक्टर के पास आपकी अनुकूलित आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए ग्रेफाइट प्रसंस्करण और माप क्षमताओं की एक विस्तृत श्रृंखला है, इसलिए हम आपके और आपके विशिष्ट एप्लिकेशन के लिए सही समाधान डिजाइन करने के लिए तैयार विशेषज्ञ इंजीनियरों की हमारी टीम के साथ शुल्क-भुगतान कोटिंग या पूर्ण-सेवा की पेशकश कर सकते हैं। .

यौगिक अर्धचालक क्रिस्टल

VeTek सेमीकंडक्टर विभिन्न घटकों और वाहकों के लिए विशेष TaC कोटिंग प्रदान कर सकता है। वीटेक सेमीकंडक्टर की उद्योग की अग्रणी कोटिंग प्रक्रिया के माध्यम से, टीएसी कोटिंग उच्च शुद्धता, उच्च तापमान स्थिरता और उच्च रासायनिक प्रतिरोध प्राप्त कर सकती है, जिससे क्रिस्टल टीएसी/जीएएन) और ईपीएल परतों की उत्पाद गुणवत्ता में सुधार होता है, और महत्वपूर्ण रिएक्टर घटकों के जीवनकाल का विस्तार होता है।

थर्मल इन्सुलेटर

क्रूसिबल, बीज धारक, डिफ्लेक्टर और फिल्टर सहित SiC, GaN और AlN क्रिस्टल विकास घटक। प्रतिरोधक हीटिंग तत्व, नोजल, परिरक्षण रिंग और ब्रेज़िंग फिक्स्चर, GaN और SiC एपिटैक्सियल CVD रिएक्टर घटकों सहित वेफर कैरियर, सैटेलाइट ट्रे, शॉवर हेड, कैप और पेडस्टल, MOCVD घटकों सहित औद्योगिक असेंबली।


उद्देश्य:

एलईडी (लाइट एमिटिंग डायोड) वेफर कैरियर

ALD (सेमीकंडक्टर) रिसीवर

ईपीआई रिसेप्टर (SiC एपिटैक्सी प्रक्रिया)


SiC कोटिंग और TaC कोटिंग की तुलना:

सिक टीएसी
मुख्य विशेषताएं अति उच्च शुद्धता, उत्कृष्ट प्लाज्मा प्रतिरोध उत्कृष्ट उच्च तापमान स्थिरता (उच्च तापमान प्रक्रिया अनुरूपता)
पवित्रता >99.9999% >99.9999%
घनत्व (जी/सेमी 3) 3.21 15
कठोरता (किलो/मिमी 2) 2900-3300 6.7-7.2
प्रतिरोधकता [Ωcm] 0.1-15,000 <1
तापीय चालकता (W/m-K) 200-360 22
थर्मल विस्तार का गुणांक (10-6/℃) 4.5-5 6.3
आवेदन सेमीकंडक्टर उपकरण सिरेमिक जिग (फोकस रिंग, शावर हेड, डमी वेफर) SiC सिंगल क्रिस्टल ग्रोथ, एपी, यूवी एलईडी उपकरण पार्ट्स


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टैंटलम कार्बाइड रिंग

टैंटलम कार्बाइड रिंग

चीन में टैंटलम कार्बाइड रिंग उत्पादों के एक उन्नत निर्माता और निर्माता के रूप में, वीटेक सेमीकंडक्टर टैंटलम कार्बाइड रिंग में अत्यधिक कठोरता, पहनने के प्रतिरोध, उच्च तापमान प्रतिरोध और रासायनिक स्थिरता है, और इसका व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर विनिर्माण क्षेत्र में उपयोग किया जाता है। विशेष रूप से सीवीडी, पीवीडी, आयन आरोपण प्रक्रिया, नक़्क़ाशी प्रक्रिया और वेफर प्रसंस्करण और परिवहन में, यह अर्धचालक प्रसंस्करण और विनिर्माण के लिए एक अनिवार्य उत्पाद है। आपके आगे के परामर्श की प्रतीक्षा में हूं।

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टैंटलम कार्बाइड कोटिंग समर्थन

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग समर्थन

चीन में एक पेशेवर टैंटलम कार्बाइड कोटिंग सपोर्ट उत्पाद निर्माता और कारखाने के रूप में, वीटेक सेमीकंडक्टर टैंटलम कार्बाइड कोटिंग सपोर्ट का उपयोग आमतौर पर सेमीकंडक्टर उपकरणों में संरचनात्मक घटकों या समर्थन घटकों की सतह कोटिंग के लिए किया जाता है, विशेष रूप से सेमीकंडक्टर विनिर्माण प्रक्रियाओं में प्रमुख उपकरण घटकों की सतह की सुरक्षा के लिए सीवीडी और पीवीडी। आपके आगे के परामर्श का स्वागत है।

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टैंटलम कार्बाइड गाइड रिंग

टैंटलम कार्बाइड गाइड रिंग

वीटेक सेमीकंडक्टर चीन में टैंटलम कार्बाइड गाइड रिंग उत्पादों का एक पेशेवर निर्माता और नेता है। हमारी टैंटलम कार्बाइड (TaC) गाइड रिंग टैंटलम कार्बाइड से बना एक उच्च प्रदर्शन वाला रिंग घटक है, जिसका उपयोग आमतौर पर अर्धचालक प्रसंस्करण उपकरण में किया जाता है, विशेष रूप से उच्च तापमान और अत्यधिक संक्षारक वातावरण जैसे सीवीडी, पीवीडी, नक़्क़ाशी और प्रसार में। वीटेक सेमीकंडक्टर सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए उन्नत प्रौद्योगिकी और उत्पाद समाधान प्रदान करने के लिए प्रतिबद्ध है, और आपकी आगे की पूछताछ का स्वागत करता है।

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TaC कोटिंग रोटेशन सुसेप्टर

TaC कोटिंग रोटेशन सुसेप्टर

चीन में TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर उत्पादों के एक पेशेवर निर्माता, प्रर्वतक और नेता के रूप में। वीटेक सेमीकंडक्टर टीएसी कोटिंग रोटेशन ससेप्टर आमतौर पर समान सामग्री जमाव और कुशल प्रतिक्रिया सुनिश्चित करने के लिए वेफर्स को समर्थन और घुमाने के लिए रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और आणविक बीम एपिटैक्सी (एमबीई) उपकरण में स्थापित किया जाता है। यह अर्धचालक प्रसंस्करण में एक प्रमुख घटक है। आपके आगे के परामर्श का स्वागत है।

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सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल

सीवीडी टीएसी कोटिंग क्रूसिबल

VeTek सेमीकंडक्टर चीन में CVD TaC कोटिंग क्रूसिबल उत्पादों का एक पेशेवर निर्माता और नेता है। CVD TaC कोटिंग क्रूसिबल टैंटलम कार्बन (TaC) कोटिंग पर आधारित है। क्रूसिबल की गर्मी प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाने के लिए रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) प्रक्रिया के माध्यम से टैंटलम कार्बन कोटिंग को क्रूसिबल की सतह पर समान रूप से कवर किया जाता है। यह एक भौतिक उपकरण है जिसका उपयोग विशेष रूप से उच्च तापमान वाले अत्यधिक वातावरण में किया जाता है। आपके आगे के परामर्श का स्वागत है।

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सीवीडी टीएसी कोटिंग वेफर कैरियर

सीवीडी टीएसी कोटिंग वेफर कैरियर

चीन में एक पेशेवर सीवीडी टीएसी कोटिंग वेफर कैरियर उत्पाद निर्माता और कारखाने के रूप में, वीटेक सेमीकंडक्टर सीवीडी टीएसी कोटिंग वेफर कैरियर एक वेफर ले जाने वाला उपकरण है जो विशेष रूप से सेमीकंडक्टर निर्माण में उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण के लिए डिज़ाइन किया गया है। और सीवीडी टीएसी कोटिंग वेफर कैरियर में उच्च यांत्रिक शक्ति, उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और थर्मल स्थिरता है, जो उच्च गुणवत्ता वाले अर्धचालक उपकरणों के निर्माण के लिए आवश्यक गारंटी प्रदान करती है। आपकी आगे की पूछताछ का स्वागत है.

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चीन में एक पेशेवर SiC एपिटैक्सी प्रक्रिया निर्माता और आपूर्तिकर्ता के रूप में, हमारा अपना कारखाना है। चाहे आपको अपने क्षेत्र की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित सेवाओं की आवश्यकता हो या आप चीन में निर्मित उन्नत और टिकाऊ SiC एपिटैक्सी प्रक्रिया खरीदना चाहते हों, आप हमें एक संदेश छोड़ सकते हैं।
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