एलपीई रिएक्टर फैक्ट्री के लिए 8 इंच हाफमून पार्ट

टैंटलम कार्बाइड लेपित प्लैनेटरी रोटेशन डिस्क निर्माता

LPE PE2061S आपूर्तिकर्ता के लिए SiC लेपित बैरल ससेप्टर

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग

वीटेक सेमीकंडक्टर सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए टैंटलम कार्बाइड कोटिंग सामग्री का अग्रणी निर्माता है। हमारे मुख्य उत्पाद प्रस्तावों में सीवीडी टैंटलम कार्बाइड कोटिंग पार्ट्स, सीआईसी क्रिस्टल विकास या सेमीकंडक्टर एपिटैक्सी प्रक्रिया के लिए सिंटेड टीएसी कोटिंग पार्ट्स शामिल हैं। ISO9001 पारित, VeTek सेमीकंडक्टर का गुणवत्ता पर अच्छा नियंत्रण है। वीटेक सेमीकंडक्टर पुनरावृत्त प्रौद्योगिकियों के चल रहे अनुसंधान और विकास के माध्यम से टैंटलम कार्बाइड कोटिंग उद्योग में प्रर्वतक बनने के लिए समर्पित है।

मुख्य उत्पाद हैं टैंटलम कार्बाइड कोटिंग डिफेक्टर रिंग, TaC कोटेड डायवर्जन रिंग, TaC कोटेड हाफमून पार्ट्स, टैंटलम कार्बाइड कोटेड प्लैनेटरी रोटेशन डिस्क (Aixtron G10), TaC कोटेड क्रूसिबल; TaC लेपित छल्ले; TaC लेपित झरझरा ग्रेफाइट; टैंटलम कार्बाइड कोटिंग ग्रेफाइट सुसेप्टर; TaC लेपित गाइड रिंग; TaC टैंटलम कार्बाइड लेपित प्लेट; TaC लेपित वेफर सुसेप्टर; TaC कोटिंग रिंग; TaC कोटिंग ग्रेफाइट कवर; TaC कोटेड चंक इत्यादि, शुद्धता 5ppm से कम है, ग्राहकों की आवश्यकताओं को पूरा कर सकता है।

TaC कोटिंग ग्रेफाइट एक मालिकाना रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) प्रक्रिया द्वारा टैंटलम कार्बाइड की एक महीन परत के साथ उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट सब्सट्रेट की सतह को कोटिंग करके बनाया जाता है। लाभ नीचे चित्र में दिखाया गया है:

टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग ने 3880°C तक के अपने उच्च गलनांक, उत्कृष्ट यांत्रिक शक्ति, कठोरता और थर्मल झटके के प्रतिरोध के कारण ध्यान आकर्षित किया है, जिससे यह उच्च तापमान आवश्यकताओं के साथ यौगिक अर्धचालक एपिटेक्सी प्रक्रियाओं का एक आकर्षक विकल्प बन गया है। जैसे ऐक्सट्रॉन एमओसीवीडी सिस्टम और एलपीई सीआईसी एपिटैक्सी प्रक्रिया। इसका पीवीटी विधि सीआईसी क्रिस्टल विकास प्रक्रिया में भी व्यापक अनुप्रयोग है।

वीटेक सेमीकंडक्टर टैंटलम कार्बाइड कोटिंग का पैरामीटर:

TaC कोटिंग के भौतिक गुण
घनत्व	14.3 (ग्राम/सेमी³)
विशिष्ट उत्सर्जन	0.3
थर्मल विस्तार गुणांक	6.3 10-6/के
कठोरता (एचके)	2000 एच.के
प्रतिरोध	1×10-5 ओम*सेमी
तापीय स्थिरता	<2500℃
ग्रेफाइट का आकार बदल जाता है	-10~-20um
परत की मोटाई	≥20um विशिष्ट मान (35um±10um)

TaC कोटिंग EDX डेटा

TaC कोटिंग क्रिस्टल संरचना डेटा

तत्व	परमाणु प्रतिशत
	पं. 1	पं. 2	पं. 3	औसत
सी के	52.10	57.41	52.37	53.96
ता एम	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC कोटिंग चक TaC कोटिंग प्लैनेटरी डिस्क TaC लेपित प्लेट TaC कोटिंग रोटेशन प्लेट TaC कोटिंग सुसेप्टर सीवीडी टैसी कोटिंग कवर सीवीडी टीएसी कोटिंग रिंग TaC कोटिंग प्लेट

सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग

VeTek सेमीकंडक्टर अल्ट्रा शुद्ध सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग उत्पादों के उत्पादन में माहिर है, इन कोटिंग्स को शुद्ध ग्रेफाइट, सिरेमिक और दुर्दम्य धातु घटकों पर लागू करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।

हमारी उच्च शुद्धता वाली कोटिंग्स मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर और इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगों में उपयोग के लिए लक्षित हैं। वे वेफर कैरियर्स, ससेप्टर्स और हीटिंग तत्वों के लिए एक सुरक्षात्मक परत के रूप में काम करते हैं, जो उन्हें एमओसीवीडी और ईपीआई जैसी प्रक्रियाओं में आने वाले संक्षारक और प्रतिक्रियाशील वातावरण से बचाते हैं। ये प्रक्रियाएँ वेफ़र प्रसंस्करण और उपकरण निर्माण का अभिन्न अंग हैं। इसके अतिरिक्त, हमारी कोटिंग्स वैक्यूम भट्टियों और नमूना हीटिंग में अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त हैं, जहां उच्च वैक्यूम, प्रतिक्रियाशील और ऑक्सीजन वातावरण का सामना करना पड़ता है।

वीटेक सेमीकंडक्टर में, हम अपनी उन्नत मशीन शॉप क्षमताओं के साथ एक व्यापक समाधान प्रदान करते हैं। यह हमें ग्रेफाइट, सिरेमिक, या दुर्दम्य धातुओं का उपयोग करके आधार घटकों का निर्माण करने और घर में SiC या TaC सिरेमिक कोटिंग्स लगाने में सक्षम बनाता है। हम विभिन्न आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए लचीलापन सुनिश्चित करते हुए, ग्राहक द्वारा आपूर्ति किए गए भागों के लिए कोटिंग सेवाएं भी प्रदान करते हैं।

हमारे सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग उत्पादों का व्यापक रूप से सी एपिटैक्सी, सीआईसी एपिटैक्सी, एमओसीवीडी सिस्टम, आरटीपी/आरटीए प्रक्रिया, नक़्क़ाशी प्रक्रिया, आईसीपी/पीएसएस नक़्क़ाशी प्रक्रिया, नीले और हरे एलईडी, यूवी एलईडी और डीप-यूवी सहित विभिन्न एलईडी प्रकारों की प्रक्रिया में उपयोग किया जाता है। एलईडी आदि, जो एलपीई, ऐक्सट्रॉन, वीको, नुफ्लेयर, टीईएल, एएसएम, एनील्सिस, टीएसआई आदि के उपकरणों के लिए अनुकूलित है।

रिएक्टर भाग हम कर सकते हैं:

सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग के कई अनूठे फायदे हैं:

वीटेक सेमीकंडक्टर सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग पैरामीटर:

CVD SiC कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति	विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना	एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
घनत्व	3.21 ग्राम/सेमी³
कठोरता	2500 विकर्स कठोरता (500 ग्राम लोड)
अनाज आकार	2~10μm
रासायनिक शुद्धता	99.99995%
ताप की गुंजाइश	640 जे·किग्रा-1·के-1
उर्ध्वपातन तापमान	2700℃
आनमनी सार्मथ्य	415 एमपीए आरटी 4-पॉइंट
यंग मापांक	430 जीपीए 4पीटी बेंड, 1300℃
ऊष्मीय चालकता	300W·m-1·K-1
थर्मल विस्तार (सीटीई)	4.5×10-6K-1

विशेष रुप से प्रदर्शित प्रोडक्टस

हमारे बारे में

VeTek सेमीकंडक्टर टेक्नोलॉजी कं, लिमिटेड, 2016 में स्थापित, सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए उन्नत कोटिंग सामग्री का एक अग्रणी प्रदाता है। हमारे संस्थापक, चाइनीज एकेडमी ऑफ साइंसेज इंस्टीट्यूट ऑफ मैटेरियल्स के पूर्व विशेषज्ञ, ने उद्योग के लिए अत्याधुनिक समाधान विकसित करने पर ध्यान केंद्रित करते हुए कंपनी की स्थापना की।

हमारी मुख्य उत्पाद पेशकश में शामिल हैंसीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) कोटिंग्स, टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग्स, थोक SiC, SiC पाउडर, और उच्च शुद्धता वाली SiC सामग्री. मुख्य उत्पाद SiC लेपित ग्रेफाइट ससेप्टर, प्रीहीट रिंग, TaC कोटेड डायवर्जन रिंग, हाफमून पार्ट्स आदि हैं, शुद्धता 5ppm से कम है, ग्राहकों की आवश्यकताओं को पूरा कर सकते हैं।