वीटेक सेमीकंडक्टर आईसीपीपीएसएस (इंडक्टिवली कपल्ड प्लाज़्मा फोटोरेसिस्ट स्ट्रिपिंग) एचिंग प्रोसेस वेफर कैरियर को विशेष रूप से सेमीकंडक्टर उद्योग की नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं की मांग आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। अपनी उन्नत सुविधाओं के साथ, यह नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान इष्टतम प्रदर्शन, दक्षता और विश्वसनीयता सुनिश्चित करता है।
उन्नत रासायनिक अनुकूलता: वेफर कैरियर का निर्माण उन सामग्रियों का उपयोग करके किया जाता है जो नक़्क़ाशी प्रक्रिया रसायन शास्त्र के साथ उत्कृष्ट रासायनिक संगतता प्रदर्शित करते हैं। यह रासायनिक प्रतिक्रियाओं या संदूषण के जोखिम को कम करते हुए, आदि की एक विस्तृत श्रृंखला, प्रतिरोधी स्ट्रिपर्स और सफाई समाधानों के साथ संगतता सुनिश्चित करता है।
उच्च तापमान प्रतिरोध: वेफर वाहक को नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान आने वाले उच्च तापमान का सामना करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह अपनी संरचनात्मक अखंडता और यांत्रिक शक्ति को बनाए रखता है, अत्यधिक तापीय परिस्थितियों में भी विरूपण या क्षति को रोकता है।
सुपीरियर ईच एकरूपता: वाहक में एक सटीक इंजीनियर डिज़ाइन होता है जो वेफर सतह पर एचेंट्स और गैसों के समान वितरण को बढ़ावा देता है। इसके परिणामस्वरूप निरंतर नक़्क़ाशी दर और उच्च-गुणवत्ता, समान पैटर्न प्राप्त होते हैं, जो सटीक और विश्वसनीय नक़्क़ाशी परिणाम प्राप्त करने के लिए आवश्यक हैं।
उत्कृष्ट वेफर स्थिरता: वाहक में एक सुरक्षित वेफर होल्डिंग तंत्र शामिल होता है जो स्थिर स्थिति सुनिश्चित करता है और नक़्क़ाशी प्रक्रिया के दौरान वेफ़र आंदोलन या फिसलन को रोकता है। यह सटीक और दोहराए जाने योग्य ईख पैटर्न की गारंटी देता है, दोषों को कम करता है और उपज हानि को कम करता है।
क्लीनरूम अनुकूलता: वेफर कैरियर को सख्त क्लीनरूम मानकों को पूरा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। इसमें कम कण उत्पादन और उत्कृष्ट सफाई है, जो किसी भी कण संदूषण को रोकता है जो नक़्क़ाशी प्रक्रिया की गुणवत्ता और उपज से समझौता कर सकता है। अशुद्धता 5 पीपीएम से नीचे है।
मजबूत और टिकाऊ निर्माण: वाहक को उच्च गुणवत्ता वाली सामग्रियों का उपयोग करके इंजीनियर किया जाता है जो अपने स्थायित्व और लंबे जीवनकाल के लिए जाने जाते हैं। यह अपने प्रदर्शन या संरचनात्मक अखंडता से समझौता किए बिना बार-बार उपयोग और कठोर सफाई प्रक्रियाओं का सामना कर सकता है।
अनुकूलन योग्य डिज़ाइन: हम विशिष्ट ग्राहक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलन योग्य विकल्प प्रदान करते हैं। वाहक को विभिन्न वेफर आकार, मोटाई और प्रक्रिया विनिर्देशों को समायोजित करने के लिए तैयार किया जा सकता है, जिससे विभिन्न नक़्क़ाशी उपकरण और प्रक्रियाओं के साथ संगतता सुनिश्चित होती है।
सेमीकंडक्टर उद्योग में नक़्क़ाशी प्रक्रिया को अनुकूलित करने के लिए डिज़ाइन किए गए हमारे आईसीपी/पीएसएस नक़्क़ाशी प्रक्रिया वेफर कैरियर की विश्वसनीयता और प्रदर्शन का अनुभव करें। इसकी बढ़ी हुई रासायनिक अनुकूलता, उच्च तापमान प्रतिरोध, बेहतर ईच एकरूपता, उत्कृष्ट वेफर स्थिरता, क्लीनरूम अनुकूलता, मजबूत निर्माण और अनुकूलन योग्य डिज़ाइन इसे आपके नक़्क़ाशी अनुप्रयोगों के लिए आदर्श विकल्प बनाते हैं।
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VeTek सेमीकंडक्टर का SiC कोटेड ICP एचिंग कैरियर सबसे अधिक मांग वाले एपिटेक्सी उपकरण अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन किया गया है। उच्च गुणवत्ता वाले अल्ट्रा-शुद्ध ग्रेफाइट सामग्री से बने, हमारे SiC लेपित ICP एचिंग कैरियर में अत्यधिक सपाट सतह और हैंडलिंग के दौरान कठोर परिस्थितियों का सामना करने के लिए उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध है। SiC लेपित वाहक की उच्च तापीय चालकता उत्कृष्ट नक़्क़ाशी परिणामों के लिए समान ताप वितरण सुनिश्चित करती है। वीटेक सेमीकंडक्टर आपके साथ दीर्घकालिक साझेदारी बनाने के लिए तत्पर है।
और पढ़ेंजांच भेजेंसेमीकंडक्टर के लिए वीटेक सेमीकंडक्टर की पीएसएस एचिंग कैरियर प्लेट एक उच्च गुणवत्ता वाला, अल्ट्रा-शुद्ध ग्रेफाइट कैरियर है जिसे वेफर हैंडलिंग प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। हमारे वाहकों का प्रदर्शन उत्कृष्ट है और वे कठोर वातावरण, उच्च तापमान और कठोर रासायनिक सफाई स्थितियों में अच्छा प्रदर्शन कर सकते हैं। हमारे उत्पाद कई यूरोपीय और अमेरिकी बाजारों में व्यापक रूप से उपयोग किए जाते हैं, और हम चीन में आपका दीर्घकालिक भागीदार बनने के लिए तत्पर हैं।
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