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TaC कोटिंग रोटेशन सुसेप्टर
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TaC कोटिंग रोटेशन सुसेप्टर

चीन में TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर उत्पादों के एक पेशेवर निर्माता, प्रर्वतक और नेता के रूप में। वीटेक सेमीकंडक्टर टीएसी कोटिंग रोटेशन ससेप्टर आमतौर पर समान सामग्री जमाव और कुशल प्रतिक्रिया सुनिश्चित करने के लिए वेफर्स को समर्थन और घुमाने के लिए रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और आणविक बीम एपिटैक्सी (एमबीई) उपकरण में स्थापित किया जाता है। यह अर्धचालक प्रसंस्करण में एक प्रमुख घटक है। आपके आगे के परामर्श का स्वागत है।

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उत्पाद वर्णन

VeTek सेमीकंडक्टर TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में वेफर हैंडलिंग के लिए एक प्रमुख घटक है। इसकाटीएसी कंपनीहमाराइसमें उत्कृष्ट उच्च तापमान सहनशीलता (3880 डिग्री सेल्सियस तक पिघलने बिंदु), रासायनिक स्थिरता और संक्षारण प्रतिरोध है, जो वेफर प्रसंस्करण में उच्च परिशुद्धता और उच्च गुणवत्ता सुनिश्चित करता है।


TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर (टैंटलम कार्बन कोटिंग रोटेशन ससेप्टर) सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण में उपयोग किया जाने वाला एक प्रमुख उपकरण घटक है। इसे आमतौर पर स्थापित किया जाता हैरासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)और समान सामग्री जमाव और कुशल प्रतिक्रिया सुनिश्चित करने के लिए वेफर्स को समर्थन और घुमाने के लिए आणविक बीम एपिटैक्सी (एमबीई) उपकरण। इस प्रकार का उत्पाद सब्सट्रेट को कोटिंग करके उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण में उपकरण की सेवा जीवन और प्रदर्शन में काफी सुधार करता हैटैंटलम कार्बन (TaC) कोटिंग.


TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर आमतौर पर सब्सट्रेट सामग्री के रूप में TaC कोटिंग और ग्रेफाइट या सिलिकॉन कार्बाइड से बना होता है। TaC एक अत्यंत उच्च तापमान वाली सिरेमिक सामग्री है जिसमें अत्यधिक उच्च गलनांक (3880°C तक गलनांक), कठोरता (विकर्स कठोरता लगभग 2000 HK) और उत्कृष्ट रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध होता है। वीटेक सेमीकंडक्टर सीवीडी तकनीक के माध्यम से सब्सट्रेट सामग्री पर टैंटलम कार्बन कोटिंग को प्रभावी ढंग से और समान रूप से कवर कर सकता है।

रोटेशन ससेप्टर आमतौर पर उच्च तापीय चालकता और उच्च शक्ति सामग्री (ग्रेफाइट या) से बना होता हैसिलिकन कार्बाइड), जो उच्च तापमान वाले वातावरण में अच्छा यांत्रिक समर्थन और थर्मल स्थिरता प्रदान कर सकता है। दोनों का सही संयोजन वेफर्स को सपोर्ट करने और घुमाने में TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर के सही प्रदर्शन को निर्धारित करता है।


TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर CVD प्रक्रिया में वेफर को सपोर्ट करता है और घुमाता है। TaC की विकर्स कठोरता लगभग 2000 HK है, जो इसे सामग्री के बार-बार घर्षण का विरोध करने और एक अच्छी सहायक भूमिका निभाने में सक्षम बनाती है, जिससे यह सुनिश्चित होता है कि प्रतिक्रिया गैस वेफर सतह पर समान रूप से वितरित होती है और सामग्री समान रूप से जमा होती है। साथ ही, TaC कोटिंग की उच्च तापमान सहनशीलता और संक्षारण प्रतिरोध इसे उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण में लंबे समय तक उपयोग करने में सक्षम बनाता है, जो प्रभावी रूप से वेफर और वाहक के संदूषण से बचाता है।


इसके अलावा, TaC की तापीय चालकता 21 W/m·K है, जिसका ताप हस्तांतरण अच्छा है। इसलिए, TaC कोटिंग रोटेशन ससेप्टर उच्च तापमान स्थितियों के तहत वेफर को समान रूप से गर्म कर सकता है और घूर्णी गति के माध्यम से गैस जमाव प्रक्रिया की एकरूपता सुनिश्चित कर सकता है, जिससे स्थिरता और उच्च गुणवत्ता बनी रहती है।वेफर वृद्धि.


सूक्ष्म क्रॉस-सेक्शन पर टैंटलम कार्बाइड (TaC) कोटिंग

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


TaC कोटिंग के भौतिक गुण


TaC कोटिंग के भौतिक गुण
घनत्व
14.3 (ग्राम/सेमी³)
विशिष्ट उत्सर्जन
0.3
थर्मल विस्तार गुणांक
6.3*10-6/के
कठोरता (एचके)
2000 एच.के
प्रतिरोध
1×10-5ओम*सेमी
तापीय स्थिरता
<2500℃
ग्रेफाइट का आकार बदल जाता है
-10~-20um
कोटिंग की मोटाई
≥20um विशिष्ट मान (35um±10um)



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