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SiC लेपित एपी रिसेप्टर
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SiC लेपित एपी रिसेप्टर

सिलिकॉन कार्बाइड और टैंटलम कार्बाइड कोटिंग्स के शीर्ष घरेलू निर्माता के रूप में, VeTek सेमीकंडक्टर SiC कोटेड एपी ससेप्टर की सटीक मशीनिंग और एक समान कोटिंग प्रदान करने में सक्षम है, जो 5ppm से कम कोटिंग और उत्पाद की शुद्धता को प्रभावी ढंग से नियंत्रित करता है। उत्पाद जीवन एसजीएल के बराबर है। हमसे पूछताछ करने के लिए आपका स्वागत है.

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उत्पाद वर्णन

आप हमारे कारखाने से SiC कोटेड एपी ससेप्टर खरीदने के लिए निश्चिंत हो सकते हैं।

VeTek सेमीकंडक्टर SiC कोटेड एपी ससेप्टर एपिटैक्सियल बैरल है, जो कई फायदों के साथ सेमीकंडक्टर एपिटैक्सियल विकास प्रक्रिया के लिए एक विशेष उपकरण है:

कुशल उत्पादन क्षमता: SiC कोटेड एपी ससेप्टर कई वेफर्स को समायोजित कर सकता है, जिससे एक साथ कई वेफर्स का एपिटैक्सियल विकास करना संभव हो जाता है। यह कुशल उत्पादन क्षमता उत्पादन क्षमता में काफी सुधार कर सकती है और उत्पादन चक्र और लागत को कम कर सकती है।

अनुकूलित तापमान नियंत्रण: वांछित वृद्धि तापमान को सटीक रूप से नियंत्रित करने और बनाए रखने के लिए SiC कोटेड एपी ससेप्टर एक उन्नत तापमान नियंत्रण प्रणाली से लैस है। स्थिर तापमान नियंत्रण एक समान एपिटैक्सियल परत के विकास को प्राप्त करने और एपिटैक्सियल परत की गुणवत्ता और स्थिरता में सुधार करने में मदद करता है।

समान वातावरण वितरण: SiC लेपित एपी ससेप्टर विकास के दौरान एक समान वातावरण वितरण प्रदान करता है, यह सुनिश्चित करता है कि प्रत्येक वेफर समान वातावरण स्थितियों के संपर्क में है। यह वेफर्स के बीच विकास अंतर से बचने में मदद करता है और एपिटैक्सियल परत की एकरूपता में सुधार करता है।

प्रभावी अशुद्धता नियंत्रण: SiC लेपित एपी ससेप्टर डिज़ाइन अशुद्धियों के परिचय और प्रसार को कम करने में मदद करता है। यह अच्छी सीलिंग और वातावरण नियंत्रण प्रदान कर सकता है, एपिटैक्सियल परत की गुणवत्ता पर अशुद्धियों के प्रभाव को कम कर सकता है, और इस प्रकार डिवाइस के प्रदर्शन और विश्वसनीयता में सुधार कर सकता है।

लचीली प्रक्रिया विकास: SiC कोटेड एपी ससेप्टर में लचीली प्रक्रिया विकास क्षमताएं हैं जो विकास मापदंडों के तेजी से समायोजन और अनुकूलन की अनुमति देती हैं। यह शोधकर्ताओं और इंजीनियरों को विभिन्न अनुप्रयोगों और आवश्यकताओं की एपिटैक्सियल विकास आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए तेजी से प्रक्रिया विकास और अनुकूलन करने में सक्षम बनाता है।


CVD SiC कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण:

CVD SiC कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
घनत्व 3.21 ग्राम/सेमी³
कठोरता 2500 विकर्स कठोरता (500 ग्राम लोड)
अनाज आकार 2~10μm
रासायनिक शुद्धता 99.99995%
ताप की गुंजाइश 640 जे·किग्रा-1·के-1
उर्ध्वपातन तापमान 2700℃
आनमनी सार्मथ्य 415 एमपीए आरटी 4-पॉइंट
यंग मापांक 430 जीपीए 4पीटी बेंड, 1300℃
ऊष्मीय चालकता 300W·m-1·K-1
थर्मल विस्तार (सीटीई) 4.5×10-6K-1



वीटेक सेमीकंडक्टर प्रोडक्शन शॉप


सेमीकंडक्टर चिप एपिटैक्सी उद्योग श्रृंखला का अवलोकन:


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