TaC कोटिंग हीटर

TaC कोटिंग हीटर एक उच्च प्रदर्शन वाला हीटिंग तत्व है जिसका व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है। इसकी सतह टैंटलम कार्बाइड (TaC) सामग्री से लेपित है, जो हीटर को उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध, रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध और उत्कृष्ट तापीय चालकता प्रदान करती है।

सेमीकंडक्टर निर्माण में TaC कोटिंग हीटर के मुख्य अनुप्रयोगों में शामिल हैं:

गैलियम नाइट्राइड (GaN) एपिटैक्सियल विकास प्रक्रिया के दौरान, TaC कोटिंग हीटर एक सटीक नियंत्रित उच्च तापमान वातावरण प्रदान करता है ताकि यह सुनिश्चित किया जा सके कि एपिटैक्सियल परत एक समान दर और उच्च गुणवत्ता पर सब्सट्रेट पर जमा हो। इसका स्थिर ताप उत्पादन पतली फिल्म सामग्री पर सटीक नियंत्रण प्राप्त करने में मदद करता है, जिससे डिवाइस के प्रदर्शन में सुधार होता है।

इसके अलावा, धातु कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) प्रक्रिया में, TaC कोटिंग के उच्च तापमान प्रतिरोध और तापीय चालकता के साथ संयुक्त, TaC कोटिंग हीटर का उपयोग आमतौर पर प्रतिक्रिया गैस को गर्म करने के लिए किया जाता है, और समान गर्मी वितरण प्रदान करके, यह बढ़ावा देता है सब्सट्रेट सतह पर इसकी रासायनिक प्रतिक्रिया होती है, जिससे एपिटैक्सियल परत की एकरूपता में सुधार होता है और एक उच्च गुणवत्ता वाली फिल्म बनती है।

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TaC कोटिंग हीटर के बुनियादी भौतिक गुण:

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