TaC लेपित ग्रेफाइट सुसेप्टर

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टैंटलम कार्बाइड सिरेमिक सामग्री पिघलने बिंदु 3880 ℃ तक, एक उच्च पिघलने बिंदु और यौगिक की अच्छी रासायनिक स्थिरता है, इसका उच्च तापमान वातावरण अभी भी स्थिर प्रदर्शन बनाए रख सकता है, इसके अलावा, इसमें उच्च तापमान प्रतिरोध, रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध, अच्छा रसायन भी है और कार्बन सामग्री और अन्य विशेषताओं के साथ यांत्रिक अनुकूलता, इसे एक आदर्श ग्रेफाइट सब्सट्रेट सुरक्षात्मक कोटिंग सामग्री बनाती है। टैंटलम कार्बाइड कोटिंग ग्रेफाइट घटकों को कठोर उपयोग के वातावरण में गर्म अमोनिया, हाइड्रोजन और सिलिकॉन वाष्प और पिघली हुई धातु के प्रभाव से प्रभावी ढंग से बचा सकती है, ग्रेफाइट घटकों की सेवा जीवन को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ा सकती है, और ग्रेफाइट में अशुद्धियों के प्रवास को रोक सकती है। एपिटेक्सी और क्रिस्टल विकास की गुणवत्ता सुनिश्चित करना। इसका उपयोग मुख्य रूप से गीली सिरेमिक प्रक्रिया में किया जाता है।

रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) ग्रेफाइट की सतह पर टैंटलम कार्बाइड कोटिंग के लिए सबसे परिपक्व और इष्टतम तैयारी विधि है।

TaC लेपित ग्रेफाइट सुसेप्टर के लिए CVD TaC कोटिंग विधि:

कोटिंग प्रक्रिया में क्रमशः कार्बन स्रोत और टैंटलम स्रोत के रूप में TaCl5 और प्रोपलीन का उपयोग किया जाता है, और उच्च तापमान गैसीकरण के बाद टैंटलम पेंटाक्लोराइड वाष्प को प्रतिक्रिया कक्ष में लाने के लिए वाहक गैस के रूप में आर्गन का उपयोग किया जाता है। लक्ष्य तापमान और दबाव के तहत, पूर्ववर्ती सामग्री का वाष्प ग्रेफाइट भाग की सतह पर सोख लिया जाता है, और कार्बन स्रोत और टैंटलम स्रोत के अपघटन और संयोजन जैसी जटिल रासायनिक प्रतिक्रियाओं की एक श्रृंखला होती है। साथ ही, सतह प्रतिक्रियाओं की एक श्रृंखला जैसे कि अग्रदूत का प्रसार और उप-उत्पादों का अवशोषण भी शामिल है। अंत में, ग्रेफाइट भाग की सतह पर एक घनी सुरक्षात्मक परत बन जाती है, जो अत्यधिक पर्यावरणीय परिस्थितियों में ग्रेफाइट भाग को स्थिर होने से बचाती है। ग्रेफाइट सामग्री के अनुप्रयोग परिदृश्यों में काफी विस्तार हुआ है।

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