सीवीडी टीएसी कोटिंग

सीवीडी टीएसी कोटिंग (रासायनिक वाष्प जमाव टैंटलम कार्बाइड कोटिंग) एक कोटिंग उत्पाद है जो मुख्य रूप से टैंटलम कार्बाइड (टीएसी) से बना है। TaC कोटिंग में अत्यधिक उच्च कठोरता, पहनने का प्रतिरोध और उच्च तापमान प्रतिरोध होता है, जो इसे प्रमुख उपकरण घटकों की सुरक्षा और प्रक्रिया विश्वसनीयता में सुधार के लिए एक आदर्श विकल्प बनाता है। यह अर्धचालक प्रसंस्करण में एक अनिवार्य सामग्री है।

सीवीडी टीएसी कोटिंग उत्पाद आमतौर पर प्रतिक्रिया कक्षों, वेफर वाहक और नक़्क़ाशी उपकरण में उपयोग किए जाते हैं, और उनमें निम्नलिखित महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं।

सीवीडी टीएसी कोटिंग का उपयोग अक्सर प्रतिक्रिया कक्षों के आंतरिक घटकों जैसे सब्सट्रेट, दीवार पैनल और हीटिंग तत्वों के लिए किया जाता है। अपने उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध के साथ, यह प्रभावी ढंग से उच्च तापमान, संक्षारक गैसों और प्लाज्मा के क्षरण का विरोध कर सकता है, जिससे उपकरण की सेवा जीवन प्रभावी ढंग से बढ़ जाता है और प्रक्रिया की स्थिरता और उत्पाद उत्पादन की शुद्धता सुनिश्चित होती है।

इसके अलावा, TaC-लेपित वेफर वाहक (जैसे क्वार्ट्ज नौकाएं, फिक्स्चर इत्यादि) में भी उत्कृष्ट गर्मी प्रतिरोध और रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध होता है। वेफर वाहक उच्च तापमान पर वेफर के लिए विश्वसनीय समर्थन प्रदान कर सकता है, वेफर संदूषण और विरूपण को रोक सकता है, और इस प्रकार समग्र चिप उपज में सुधार कर सकता है।

इसके अलावा, VeTek सेमीकंडक्टर की TaC कोटिंग का उपयोग विभिन्न नक़्क़ाशी और पतली फिल्म जमाव उपकरण, जैसे प्लाज्मा एचर, रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली आदि में भी व्यापक रूप से किया जाता है। इन प्रसंस्करण प्रणालियों में, CVD TAC कोटिंग उच्च-ऊर्जा आयन बमबारी और मजबूत रासायनिक प्रतिक्रियाओं का सामना कर सकती है। , जिससे प्रक्रिया की सटीकता और दोहराव सुनिश्चित हो सके।

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सीवीडी टीएसी कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण:

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