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सीवीडी एसआईसी फोकस रिंग
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सीवीडी एसआईसी फोकस रिंग

VeTek सेमीकंडक्टर CVD SiC फोकस रिंग्स का एक अग्रणी घरेलू निर्माता और आपूर्तिकर्ता है, जो सेमीकंडक्टर उद्योग के लिए उच्च-प्रदर्शन, उच्च-विश्वसनीयता उत्पाद समाधान प्रदान करने के लिए समर्पित है। VeTek सेमीकंडक्टर के CVD SiC फोकस रिंग उन्नत रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) तकनीक का उपयोग करते हैं, इसमें उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और तापीय चालकता होती है, और सेमीकंडक्टर लिथोग्राफी प्रक्रियाओं में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। आपकी जिज्ञासाओं का सदैव स्वागत है।

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उत्पाद वर्णन

आधुनिक इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों और सूचना प्रौद्योगिकी की नींव के रूप में, सेमीकंडक्टर प्रौद्योगिकी आज के समाज का एक अनिवार्य हिस्सा बन गई है। स्मार्टफोन से लेकर कंप्यूटर, संचार उपकरण, चिकित्सा उपकरण और सौर सेल तक, लगभग सभी आधुनिक प्रौद्योगिकियां अर्धचालक उपकरणों के निर्माण और अनुप्रयोग पर निर्भर करती हैं।


जैसे-जैसे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के कार्यात्मक एकीकरण और प्रदर्शन की आवश्यकताएं बढ़ती जा रही हैं, सेमीकंडक्टर प्रक्रिया प्रौद्योगिकी भी लगातार विकसित और सुधार रही है। अर्धचालक प्रौद्योगिकी में मुख्य कड़ी के रूप में, नक़्क़ाशी प्रक्रिया सीधे उपकरण की संरचना और विशेषताओं को निर्धारित करती है।


वांछित संरचना और सर्किट पैटर्न बनाने के लिए अर्धचालक की सतह पर सामग्री को सटीक रूप से हटाने या समायोजित करने के लिए नक़्क़ाशी प्रक्रिया का उपयोग किया जाता है। ये संरचनाएं अर्धचालक उपकरणों के प्रदर्शन और कार्यक्षमता को निर्धारित करती हैं। नक़्क़ाशी प्रक्रिया नैनोमीटर-स्तर की सटीकता प्राप्त करने में सक्षम है, जो उच्च-घनत्व, उच्च-प्रदर्शन एकीकृत सर्किट (आईसी) के निर्माण का आधार है।


सीवीडी सीआईसी फोकस रिंग सूखी नक़्क़ाशी में एक मुख्य घटक है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से प्लाज्मा को फोकस करने के लिए किया जाता है ताकि वेफर सतह पर उच्च घनत्व और ऊर्जा हो। इसमें गैस को समान रूप से वितरित करने का कार्य है। वीटेक सेमीकंडक्टर सीवीडी प्रक्रिया के माध्यम से परत दर परत SiC को बढ़ाता है और अंत में CVD SiC फोकस रिंग प्राप्त करता है। तैयार सीवीडी सीआईसी फोकस रिंग नक़्क़ाशी प्रक्रिया की आवश्यकताओं को पूरी तरह से पूरा कर सकती है।


CVD SiC Focus Ring working diagram

सीवीडी सीआईसी फोकस रिंग यांत्रिक गुणों, रासायनिक गुणों, तापीय चालकता, उच्च तापमान प्रतिरोध, आयन नक़्क़ाशी प्रतिरोध आदि में उत्कृष्ट है।


● उच्च घनत्व नक़्क़ाशी की मात्रा को कम कर देता है

● उच्च बैंड गैप और उत्कृष्ट इन्सुलेशन

● उच्च तापीय चालकता, कम विस्तार गुणांक, और ताप आघात प्रतिरोध

● उच्च लोच और अच्छा यांत्रिक प्रभाव प्रतिरोध

● उच्च कठोरता, घिसाव प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध


VeTek सेमीकंडक्टर के पास चीन में अग्रणी CVD SiC फोकस रिंग प्रोसेसिंग क्षमताएं हैं। इस बीच, वीटेक सेमीकंडक्टर की परिपक्व तकनीकी टीम और बिक्री टीम हमें ग्राहकों को सबसे उपयुक्त फोकस रिंग उत्पाद प्रदान करने में मदद करती है। वीटेक सेमीकंडक्टर को चुनने का अर्थ है सीमाओं को आगे बढ़ाने के लिए प्रतिबद्ध कंपनी के साथ साझेदारी करनासीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड नवाचार।


गुणवत्ता, प्रदर्शन और ग्राहकों की संतुष्टि पर ज़ोर देने के साथ, हम ऐसे उत्पाद प्रदान करते हैं जो न केवल सेमीकंडक्टर उद्योग की कठोर मांगों को पूरा करते हैं बल्कि उससे भी अधिक करते हैं। आइए हम अपने उन्नत सीवीडी सिलिकॉन कार्बाइड समाधानों के साथ आपके संचालन में अधिक दक्षता, विश्वसनीयता और सफलता प्राप्त करने में आपकी सहायता करें।


सीवीडी एसआईसी फिल्म का एसईएम डेटा

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM


CVD SiC कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण

CVD SiC कोटिंग के बुनियादी भौतिक गुण
संपत्ति
विशिष्ट मूल्य
क्रिस्टल की संरचना
एफसीसी β चरण पॉलीक्रिस्टलाइन, मुख्य रूप से (111) उन्मुख
SiC कोटिंग घनत्व
3.21 ग्राम/सेमी³
SiC कोटिंग कठोरता
2500 विकर्स कठोरता (500 ग्राम लोड)
अनाज आकार
2~10μm
रासायनिक शुद्धता
99.99995%
ताप की गुंजाइश
640 जे·किग्रा-1·के-1
उर्ध्वपातन तापमान
2700℃
आनमनी सार्मथ्य
415 एमपीए आरटी 4-पॉइंट
यंग का मापांक
430 जीपीए 4पीटी बेंड, 1300℃
ऊष्मीय चालकता
300W·m-1·के-1
थर्मल विस्तार (सीटीई)
4.5×10-6K-1

वीटेक सेमीकंडक्टरसीवीडी एसआईसी फोकस रिंग उत्पाद दुकानें:

Semiconductor process equipmentSiC Coating Wafer CarrierCVD SiC Focus RingOxidation and Diffusion Furnace Equipment

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