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सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट वेफर: सिलिकॉन, GaAs, SiC और GaN के भौतिक गुण

सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट वेफर: सिलिकॉन, GaAs, SiC और GaN के भौतिक गुण

लेख सिलिकॉन, GaAs, SiC और GaN जैसे सेमीकंडक्टर सब्सट्रेट वेफर्स के भौतिक गुणों का विश्लेषण करता है

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GaN-आधारित निम्न-तापमान एपिटैक्सी तकनीक

GaN-आधारित निम्न-तापमान एपिटैक्सी तकनीक

यह लेख मुख्य रूप से GaN-आधारित निम्न-तापमान एपिटैक्सियल तकनीक का वर्णन करता है, जिसमें GaN-आधारित सामग्रियों की क्रिस्टल संरचना, 3. एपिटैक्सियल प्रौद्योगिकी आवश्यकताएं और कार्यान्वयन समाधान, पीवीडी सिद्धांतों के आधार पर कम तापमान वाली एपिटैक्सियल तकनीक के फायदे और विकास की संभावनाएं शामिल हैं। निम्न......

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CVD TaC और sintered TaC के बीच क्या अंतर है?

CVD TaC और sintered TaC के बीच क्या अंतर है?

यह लेख सबसे पहले TaC की आणविक संरचना और भौतिक गुणों का परिचय देता है, और सिंटेड टैंटलम कार्बाइड और CVD टैंटलम कार्बाइड के अंतर और अनुप्रयोगों के साथ-साथ VeTek सेमीकंडक्टर के लोकप्रिय TaC कोटिंग उत्पादों पर ध्यान केंद्रित करता है।

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CVD TaC कोटिंग कैसे तैयार करें?

CVD TaC कोटिंग कैसे तैयार करें?

यह आलेख सीवीडी टीएसी कोटिंग की उत्पाद विशेषताओं, सीवीडी विधि का उपयोग करके सीवीडी टीएसी कोटिंग तैयार करने की प्रक्रिया और तैयार सीवीडी टीएसी कोटिंग की सतह आकृति विज्ञान का पता लगाने की मूल विधि का परिचय देता है।

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टैंटलम कार्बाइड कोटिंग क्या है?

टैंटलम कार्बाइड कोटिंग क्या है?

यह लेख TaC कोटिंग की उत्पाद विशेषताओं, CVD प्रक्रिया का उपयोग करके TaC कोटिंग उत्पादों को तैयार करने की विशिष्ट प्रक्रिया, और VeTek सेमीकंडक्टर की सबसे लोकप्रिय TaC कोटिंग का परिचय देता है।

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SiC एपीटैक्सियल वृद्धि के लिए SiC कोटिंग एक प्रमुख मुख्य सामग्री क्यों है?

SiC एपीटैक्सियल वृद्धि के लिए SiC कोटिंग एक प्रमुख मुख्य सामग्री क्यों है?

यह आलेख उन कारणों का विश्लेषण करता है कि क्यों SiC कोटिंग SiC एपिटैक्सियल विकास के लिए एक प्रमुख मुख्य सामग्री है और सेमीकंडक्टर उद्योग में SiC कोटिंग के विशिष्ट लाभों पर ध्यान केंद्रित करती है।

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