सिलिकॉन कार्बाइड वेफर नाव

पेशेवर निर्माता के रूप में, वीटेक सेमीकंडक्टर आपको उच्च गुणवत्ता वाली सिलिकॉन कार्बाइड वेफर नाव प्रदान करना चाहता है।

उत्कृष्ट थर्मल प्रदर्शन: वीटेक सेमीकंडक्टर के उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड वेफर बोट में उत्कृष्ट थर्मल प्रदर्शन होता है, उच्च तापमान वाले वातावरण में स्थिर होते हैं, और उत्कृष्ट तापीय चालकता होती है, जो उन्हें परिवेश से कहीं ऊपर के तापमान पर संचालित करने की अनुमति देती है। यह उच्च-शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड वेफर बोट को उच्च-शक्ति और उच्च-तापमान सहनशक्ति अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाता है।

उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध: उच्च शुद्धता सिलिकॉन कार्बाइड वेफर नाव अर्धचालक निर्माण के लिए एक महत्वपूर्ण उपकरण है, और इसमें विभिन्न संक्षारक एजेंटों के लिए मजबूत प्रतिरोध है। एक विश्वसनीय वाहक के रूप में, यह रासायनिक वातावरण में उच्च तापमान और संक्षारण के प्रभावों का सामना कर सकता है, जिससे सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स की सुरक्षित और प्रभावी प्रसंस्करण सुनिश्चित होती है। एक विश्वसनीय वाहक के रूप में, यह रासायनिक वातावरण में उच्च तापमान और संक्षारण के प्रभावों का सामना कर सकता है, जिससे सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स की सुरक्षित और प्रभावी प्रसंस्करण सुनिश्चित होती है।

आयामी अखंडता: उच्च शुद्धता वाली सिलिकॉन कार्बाइड वेफर नाव सिंटरिंग प्रक्रिया के दौरान सिकुड़ती नहीं है, आयामी अखंडता को बनाए रखती है और अवशिष्ट तनाव को समाप्त करती है जो भागों में विकृति या दरार का कारण बन सकती है। यह सटीक आयामों के साथ जटिल आकार के हिस्सों के निर्माण को सक्षम बनाता है। चाहे सेमीकंडक्टर उपकरणों के निर्माण में हो या अन्य औद्योगिक क्षेत्रों में, उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड वेफर बोट यह सुनिश्चित करने के लिए विश्वसनीय आयामी नियंत्रण प्रदान करते हैं कि हिस्से विनिर्देशों को पूरा करते हैं।

एक बहुमुखी उपकरण के रूप में, वीटेक सेमीकंडक्टर की उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड वेफर बोट को विभिन्न सेमीकंडक्टर निर्माण प्रौद्योगिकियों पर लागू किया जा सकता है, जिसमें एपिटैक्सियल विकास और रासायनिक वाष्प जमाव शामिल है। इसकी टिकाऊ डिजाइन और गैर-प्रतिक्रियाशील प्रकृति उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड वेफर बोट को विभिन्न प्रकार के प्रसंस्करण रसायन विज्ञान के लिए उपयुक्त बनाती है, जिससे यह सुनिश्चित होता है कि यह विभिन्न प्रसंस्करण वातावरणों के लिए आसानी से अनुकूल हो सके।

सेमीकंडक्टर निर्माण में, एपीटैक्सियल वृद्धि और रासायनिक वाष्प जमाव सामान्य प्रक्रिया चरण हैं जिनका उपयोग उच्च गुणवत्ता वाले वेफर्स और पतली फिल्मों को विकसित करने के लिए किया जाता है। उच्च शुद्धता वाली SiC नाव एक वाहक के रूप में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है, जो सटीक विकास और जमाव प्रक्रियाओं को सुनिश्चित करने के लिए उच्च तापमान और रसायनों के प्रभाव का सामना कर सकती है।

अपने टिकाऊ डिज़ाइन के अलावा, उच्च शुद्धता वाली SiC नाव गैर-प्रतिक्रियाशील भी है। इसका मतलब यह है कि यह प्रसंस्करण रसायनों के साथ प्रतिकूल प्रतिक्रिया नहीं करेगा, जिससे नाव की अखंडता और प्रदर्शन बरकरार रहेगा। यह सेमीकंडक्टर निर्माताओं को उत्पादन प्रक्रिया में स्थिरता और दोहराव सुनिश्चित करने के लिए एक विश्वसनीय उपकरण प्रदान करता है।

पुनर्क्रिस्टलीकृत सिलिकॉन कार्बाइड के भौतिक गुण

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सेमीकंडक्टर चिप एपिटैक्सी उद्योग श्रृंखला का अवलोकन: