SiC शावर हेड

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सिलिकॉन कार्बाइड सामग्री में उत्कृष्ट थर्मल, इलेक्ट्रिकल और रासायनिक गुणों का एक अनूठा संयोजन होता है, जो उन्हें अर्धचालक उद्योग में अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाता है जहां उच्च प्रदर्शन सामग्री की आवश्यकता होती है।

VeTek सेमीकंडक्टर की क्रांतिकारी तकनीक SiC शावर हेड के उत्पादन को सक्षम बनाती है, जो रासायनिक वाष्प जमाव की प्रक्रिया के माध्यम से बनाई गई एक अति-उच्च शुद्धता वाली सिलिकॉन कार्बाइड सामग्री है।

SiC शावर हेड सेमीकंडक्टर निर्माण में एक महत्वपूर्ण घटक है, जिसे विशेष रूप से MOCVD सिस्टम, सिलिकॉन एपिटैक्सी और SiC एपिटैक्सी प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। मजबूत ठोस सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) से निर्मित, यह घटक प्लाज्मा प्रसंस्करण और उच्च तापमान अनुप्रयोगों की चरम स्थितियों का सामना कर सकता है।

सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) अपनी उच्च तापीय चालकता, रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध और असाधारण यांत्रिक शक्ति के लिए जाना जाता है, जो इसे SiC शावर हेड जैसे थोक SiC घटकों के लिए एक आदर्श सामग्री बनाता है। गैस शॉवर हेड वेफर सतह पर प्रक्रिया गैसों का समान वितरण सुनिश्चित करता है, जो उच्च गुणवत्ता वाले एपिटैक्सियल परतों के उत्पादन के लिए आवश्यक है। फोकस रिंग और एज रिंग, जो अक्सर सीवीडी-एसआईसी से बने होते हैं, समान प्लाज्मा वितरण को बनाए रखते हैं और चैम्बर को संदूषण से बचाते हैं, एपिटैक्सियल विकास की दक्षता और उपज को बढ़ाते हैं।

अपने सटीक गैस प्रवाह नियंत्रण और उत्कृष्ट सामग्री गुणों के साथ, SiC शावर हेड आधुनिक अर्धचालक प्रसंस्करण में एक प्रमुख घटक है, जो सिलिकॉन एपिटैक्सी और SiC एपिटैक्सी में उन्नत अनुप्रयोगों का समर्थन करता है।

वीटेक सेमीकंडक्टर एक कम प्रतिरोधकता वाला सिन्जेड सिलिकॉन कार्बाइड सेमीकंडक्टर शॉवर हेड प्रदान करता है। हमारे पास विभिन्न अद्वितीय क्षमताओं का उपयोग करके कस्टम इंजीनियर और उन्नत सिरेमिक सामग्री की आपूर्ति करने की क्षमता है।

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