एएलडी फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडस्टल

वीटेक सेमीकंडक्टर एएलडी फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडस्टल सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया में एक सहायक संरचना के रूप में महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है।क्वार्ट्ज नाव, जिसका उपयोग धारण करने के लिए किया जाता हैवफ़र. फ़्यूज़्ड क्वार्ट्ज़ पेडस्टल एक स्थिर तापमान बनाए रखकर एक समान फिल्म जमाव प्राप्त करने में मदद करता है, जो सीधे अर्धचालक उपकरणों के प्रदर्शन और विश्वसनीयता को प्रभावित करता है। इसके अलावा, क्वार्ट्ज पेडस्टल प्रक्रिया कक्ष में गर्मी और प्रकाश का समान वितरण सुनिश्चित करता है, जिससे जमाव प्रक्रिया की समग्र गुणवत्ता में सुधार होता है।

एएलडी फ़्यूज़्ड क्वार्ट्ज़ पेडस्टल सामग्री के लाभ

उच्च तापमान प्रतिरोध: फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज़ पेडस्टल का नरमी बिंदु लगभग 1730°C जितना ऊंचा है, और यह लंबे समय तक 1100°C से 1250°C के उच्च तापमान संचालन का सामना कर सकता है, और 1450°C तक के अत्यधिक तापमान वाले वातावरण में उजागर किया जा सकता है। थोड़े समय के लिए।

उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध: फ़्यूज़्ड क्वार्ट्ज हाइड्रोफ्लोरिक एसिड को छोड़कर लगभग सभी एसिड के लिए अत्यधिक रासायनिक रूप से निष्क्रिय है। इसका एसिड प्रतिरोध सिरेमिक से 30 गुना अधिक और स्टेनलेस स्टील से 150 गुना अधिक है। फ़्यूज़्ड क्वार्ट्ज उच्च तापमान पर रासायनिक रूप से बेजोड़ है, जो इसे जटिल रासायनिक प्रक्रियाओं के लिए एक आदर्श सामग्री बनाता है।

तापीय स्थिरता: फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज़ पेडस्टल सामग्री की एक प्रमुख विशेषता इसका थर्मल विस्तार का बेहद कम गुणांक है। इसका मतलब यह है कि यह बिना टूटे नाटकीय तापमान में उतार-चढ़ाव को आसानी से संभाल सकता है। उदाहरण के लिए, फ़्यूज्ड सिलिका क्वार्ट्ज़ को तुरंत 1100°C तक गर्म किया जा सकता है और बिना किसी नुकसान के सीधे ठंडे पानी में डुबोया जा सकता है, जो उच्च-तनाव वाली विनिर्माण स्थितियों में एक महत्वपूर्ण विशेषता है।

कठोर विनिर्माण प्रक्रिया: फ़्यूज्ड सिलिका पेडस्टल की उत्पादन प्रक्रिया उच्च गुणवत्ता मानकों का कड़ाई से पालन करती है। उत्पादन प्रक्रिया में हॉट फॉर्मिंग और वेल्डिंग प्रक्रियाओं का उपयोग किया जाता है, जो आमतौर पर 10,000 वर्ग के क्लीनरूम वातावरण में पूरा किया जाता है। बाद में, उत्पाद की शुद्धता और इष्टतम प्रदर्शन सुनिश्चित करने के लिए फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज़ ग्लास पेडस्टल को अल्ट्राप्योर पानी (18 MΩ) से अच्छी तरह से साफ किया जाता है। सेमीकंडक्टर उद्योग के उच्च मानकों को पूरा करने के लिए प्रत्येक तैयार उत्पाद का कड़ाई से निरीक्षण किया जाता है, साफ किया जाता है और कक्षा 1,000 या उच्चतर क्लीनरूम में पैक किया जाता है।

उच्च शुद्धता अपारदर्शी सिलिका क्वार्ट्ज सामग्री

VeTeksemi ALD फ़्यूज़्ड क्वार्ट्ज़ पेडस्टल गर्मी और प्रकाश को प्रभावी ढंग से अलग करने के लिए उच्च शुद्धता वाली अपारदर्शी क्वार्ट्ज़ सामग्री का उपयोग करता है। इसके उत्कृष्ट ताप परिरक्षण और प्रकाश परिरक्षण गुण इसे प्रक्रिया कक्ष में समान तापमान वितरण बनाए रखने में सक्षम बनाते हैं, जिससे पतली की एकरूपता और स्थिरता सुनिश्चित होती हैफ़िल्म चित्रणवेफर सतह पर.

अनुप्रयोग फ़ील्ड

फ़्यूज्ड क्वार्ट्ज़ पेडस्टल का उपयोग उनके उत्कृष्ट प्रदर्शन के कारण सेमीकंडक्टर उद्योग के कई क्षेत्रों में व्यापक रूप से किया जाता है। मेंपरमाणु परत जमाव (एएलडी) प्रक्रिया, यह फिल्म विकास के सटीक नियंत्रण का समर्थन करता है और अर्धचालक उपकरणों की उन्नति सुनिश्चित करता है। मेंनिम्न दबाव रासायनिक वाष्प जमाव (एलपीसीवीडी) प्रक्रियाउच्च शुद्धता वाले क्वार्ट्ज पेडस्टल की थर्मल स्थिरता और प्रकाश परिरक्षण क्षमता पतली फिल्मों के एक समान जमाव की गारंटी प्रदान करती है, जिससे डिवाइस के प्रदर्शन और उपज में सुधार होता है।

इसके अलावा, प्रसार वेफर प्रक्रिया में, फ्यूज्ड क्वार्ट्ज पेडस्टल का उच्च तापमान प्रतिरोध और रासायनिक संक्षारण प्रतिरोध अर्धचालक सामग्री डोपिंग प्रक्रिया की विश्वसनीयता और स्थिरता सुनिश्चित करता है। ये प्रमुख प्रक्रियाएं अर्धचालक उपकरणों के विद्युत प्रदर्शन को निर्धारित करती हैं, और उच्च गुणवत्ता वाली फ्यूज्ड क्वार्ट्ज सामग्री इन प्रक्रियाओं के सर्वोत्तम परिणाम प्राप्त करने में अपरिहार्य भूमिका निभाती हैं।

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